Re: Mitä eroa on "JM" ja "

[chengyh]

"JM" määritellään aktiivinen alueella, th valmistus, mitä aineistoja se diffuusi?tai ei mitään tehdä.
The iorn implantaatti on määritelmän mukaan "NIMP" tai "parittaja", jonka ala on suurempi kuin "JM" määritelty.Kysymys kuuluu: mikä on resoult sen alueen, joka sisällä "NIMP" tai "parittaja", mutta sen ulkopuolella "JM"?Lisätty jälkeen 29 minuuttia:chengyh wrote:

"JM" määritellään aktiivinen alueella, th valmistus, mitä aineistoja se diffuusi?
tai ei mitään tehdä.

The iorn implantaatti on määritelmän mukaan "NIMP" tai "parittaja", jonka ala on suurempi kuin "JM" määritelty.
Kysymys kuuluu: mikä on resoult sen alueen, joka sisällä "NIMP" tai "parittaja", mutta sen ulkopuolella "JM"?

 

[Colbhaidh]

JM määritellään piitä, johon eri dopants on levitettävän jotta luomaan MOS tai Kaksisuuntainen tai mitä tahansa.Alueet, jotka eivät ole JM ovat erillään alueilla yleensä paksun oksidin isolaattori.Nämä ovat tyypillisesti 0.25um syvä varten 0.13um on 0.40um syvä varten suurjännitesiirtoverkkoa BCD prosessi.kaikki dopant että joutuu eristävällä kerroksella on sähköisesti inaktiivinen ja siten merkityksetön.Ainoastaan dopingin että menee osaksi JM tulee käyttää.
Syynä NIMP ja parittaja on suurempi, että JM on mahdollistaa mis-rekisteröinti näiden implantaatti kerroksia ja JM.Ei saa missään tapauksessa kaikki alueen JM että on saada dopingia, ei saa sitä, koska IMP mask on vinoutuneiden on JM.Tekijä oversizing nämä naamarit suhteessa JM, tämä lähde virhe on poistettu.

 

[chengyh]

Colbhaidh wrote:

JM määritellään piitä, johon eri dopants on levitettävän jotta luomaan MOS tai Kaksisuuntainen tai mitä tahansa.
Alueet, jotka eivät ole JM ovat erillään alueilla yleensä paksun oksidin isolaattori.
Nämä ovat tyypillisesti 0.25um syvä varten 0.13um on 0.40um syvä varten suurjännitesiirtoverkkoa BCD prosessi.
kaikki dopant että joutuu eristävällä kerroksella on sähköisesti inaktiivinen ja siten merkityksetön.
Ainoastaan dopingin että menee osaksi JM tulee käyttää.

Syynä NIMP ja parittaja on suurempi, että JM on mahdollistaa mis-rekisteröinti näiden implantaatti kerroksia ja JM.
Ei saa missään tapauksessa kaikki alueen JM että on saada dopingia, ei saa sitä, koska IMP mask on vinoutuneiden on JM.
Tekijä oversizing nämä naamarit suhteessa JM, tämä lähde virhe on poistettu.